第1章 金剛石薄膜的性質
1.1 金剛石的晶體結構
1.2 金剛石的物理化學性能
1.2.1 金剛石的力學性能
1.2.2 金剛石的熱學性能
1.2.3 金剛石的光學性能
1.2.4 金剛石的電學性能
1.2.5 金剛石的聲學性能
1.2.6 金剛石的化學性能
1.3 金剛石薄膜的CVD制備方法
1.3.1 熱絲CVD法
1.3.2 微波等離子體CVD法
1.3.3 直流等離子體噴射CVD法
1.3.4 燃燒火焰CVD法
1.4 金剛石的應用
1.4.1 金剛石在機械領域的應用
1.4.2 金剛石在熱沉領域的應用
1.4.3 金剛石在光學領域的應用
1.4.4 金剛石在半導體領域的應用
1.4.5 金剛石在聲學領域的應用
1.4.6 金剛石在其他領域的應用
參考文獻
第2章 金剛石薄膜的沉積原理
2.1 CVD法制備金剛石膜的原理
2.1.1 CVD金剛石膜的制備方法
2.1.2 CVD金剛石膜的生長原理
2.1.3 CVD金剛石膜生長過程中原子H的作用
2.2 熱絲CVD裝置及金剛石膜檢測方法
2.2.1 熱絲CVD裝置及其工作原理
2.2.2 金剛石膜的檢測方法
2.3 熱絲CVD法制備金剛石膜的前置條件
2.3.1 熱絲的選擇與處理
2.3.2 碳源的選擇與影響
2.3.3 基體材料的選擇
2.4 熱絲CVD法制備金剛石膜的形核
2.4.1 負偏壓增強形核
2.4.2 過渡層增強形核
2.4.3 基體表面預處理增強形核
2.5 熱絲CVD法制備金剛石膜的生長及其影響因素
2.5.1 熱絲與基體之間的間距對金剛石膜生長的影響
2.5.2 基體溫度對金剛石膜生長的影響
2.5.3 反應氣壓對金剛石膜生長的影響
2.5.4 碳源濃度對金剛石膜生長的影響
2.5.5 輔助氣體對金剛石膜生長的影響
2.5.6 生長過程中摻雜對金剛石膜生長的影響
參考文獻
第3章 化學氣相沉積金剛石等離子體診斷
3.1 氣相化學診斷方法
3.1.1 探針診斷法
3.1.2 波干涉診斷法