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薄膜技術與應用/西北工業大學研究生高水平課程體繫建設叢書
該商品所屬分類:工業技術 -> 一般工業技術
【市場價】
353-512
【優惠價】
221-320
【介質】 book
【ISBN】9787561247396
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內容介紹



  • 出版社:西北工大
  • ISBN:9787561247396
  • 作者:編者:馮麗萍//劉正堂
  • 頁數:222
  • 出版日期:2016-02-01
  • 印刷日期:2016-02-01
  • 包裝:平裝
  • 開本:16開
  • 版次:1
  • 印次:1
  • 字數:346千字
  • 馮麗萍、劉正堂編著的《薄膜技術與應用》為研
    究生高水平課程教材。全書主要內容包括真空技術基
    礎、真空蒸發鍍膜、分子束外延生長、濺射鍍膜、激
    光脈衝沉積、離子鍍和離子束沉積、化學氣相沉積、
    原子層沉積(ALD)鍍膜、溶液鍍膜法和自組裝膜等。
    本書既可作為研究生的相關課程教材,也可供其
    他人員學習參考。
  • 第l章 真空技術基礎
    1.1 真空的基本知識
    1.2 稀薄氣體的性質
    1.3 真空的獲得
    1.4 真空的測量
    習題
    第2章 真空蒸發鍍膜
    2.1 真空蒸鍍原理
    2.2 蒸發加熱方式及蒸發源
    2.3 真空蒸鍍工藝
    2.4 真空蒸鍍應用舉例
    習題
    第3章 分子束外延生長
    3.1 分子束外延的原理及特點
    3.2 分子束外延設備
    3.3 MBE生長
    3.4 MBE方法制備的材料及其器件應用
    習題
    第4章 濺射鍍膜
    4.1 濺射鍍膜的特點
    4.2 濺射的基本原理
    4.3 濺射特性
    4.4 濺射原子的能量分布和角分布
    4.5 濺射過程
    4.6 濺射方法
    4.7 濺射鍍膜的實例
    習題
    第5章 激光脈衝沉積
    5.1 激光脈衝沉積鍍膜原理
    5.2 工藝參數對PLD鍍膜質量影響
    5.3 脈衝激光沉積的優缺點
    5.4 脈衝激光沉積的種類及應用
    習題
    第6章 離子鍍和離子束沉積
    6.1 離子鍍
    6.2 幾種典型的離子鍍方式
    6.3 離子束沉積
    6.4 應用實例
    習題
    第7章 化學氣相沉積
    7.1 CVD沉積基本原理
    7.2 常用的化學氣相沉積方法
    7.3 CVD應用鍍膜實例
    習題
    第8章 原子層沉積(ALD)鍍膜
    8.1 A【。D的原理
    8.2 AI。D的技術特征及優點
    8.3 ALD的種類
    8.4 ALD的應用舉例
    習題
    第9章 溶液鍍膜法
    9.1 電鍍技術
    9.2 化學鍍
    9.3 溶膠一凝膠(S01一Gel)法
    9.4 陽極氧化法
    9.5 LB技術
    9.6 溶液鍍膜法應用舉例
    習題
    **0章 自組裝膜
    10.1 自組裝技術
    10.2 自組裝單分子膜
    10.3 層層自組裝多層膜
    10.4 自組裝膜制備的影響因素
    10.5 自組裝膜的表征
    10.6 自組裝膜應用
    習題
    參考文獻
 
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