《流體輔助微納拋光原理與技術》分為9章，第1章對光學加工進行了綜述，其他章節分別介紹了磁介質輔助加工技術、磁流變拋光技術、電流變拋光技術、氣射流拋光技術、水射流拋光技術、磁射流拋光技術、浮法拋光技術、化學拋光。本書結合作者程灝波科研團隊多年來在流體輔助拋光領域的研究成果和學術積累，對流體輔助拋光原理和工藝方法進行繫統的闡述。

序言
第1章 緒論
1.1 概述
1.2 流體輔助拋光技術的分類
1.3 流體輔助拋光技術的發展
第2章 磁介質輔助加工
2.1 磁場輔助拋光技術
2.2 磁性液體拋光技術
2.3 磁力研磨技術
參考文獻
第3章 磁流變拋光
3.1 概述
3.2 磁學理論基礎
3.3 拋光繫統與模型
3.4 磁流變拋光液
3.5 工藝研究
3.6 小結
參考文獻
第4章 電流變拋光
4.1 概述
4.2 電流變液體
4.3 電流變拋光液
4.4 電流變拋光模型
4.5 裝置設計與分析
4.6 工藝研究
4.7 小結
參考文獻
第5章 氣射流拋光
5.1 概述
5.2 基本原理
5.3 加工機理與技術
5.4 加工仿真與實驗研究
5.5 小結
參考文獻
第6章 水射流拋光
6.1 概述
6.2 基本原理與特點
6.3 論模型
6.4 工藝研究
6.5 小結
參考文獻
第7章 磁射流拋光
7.1 概述
7.2 流體動力學理論基礎
7.3 液柱保形機理
7.4 去除函數模型與特性
7.5 工藝研究
7.6 加工裝置
7.7 小結
參考文獻