自本書2004年**版問世以來，因其技術**、內容實用而深受行業讀者的好評，並被許多高校選為教材。
在本書的第二版中，我們將盡可能地反映薄膜材料研究的這一*新進展情況。為此，在第六章中，我們將原來的第四節“三族元素氮化物薄膜材料”的全部內容*換為“石墨片二維薄膜材料”。其他修訂內容包括：刪去了第三章中過多的物理氣相沉積示意圖，以使全章篇幅不致過大；在第四章第四節和第六章第三節中，我們又補充了一些相關的薄膜材料*新研究成果和研究進展。此外，該書還對**版出現的一些錯誤，特別是文字錯誤，都一一進行了修改。

本書繫統闡述了薄膜材料與薄膜技術的基本原理和基本知識，重點介 紹了薄膜材料的真空制備技術、薄膜的化學制備和物理氣相沉積方法、薄 膜的形成和生長原理、薄膜的表征，對目前廣泛研究和應用的幾種主要薄 膜材料進行了介紹、評述和展望。 本書技術先進，內容實用，適合於從事材料研究的科研、技術人員閱 讀參考，同時也可作為高校材料專業教材使用。

前言
第一章 真空技術基礎
第一節 真空的基本知識
一、表示真空程度的單位
二、真空區域的劃分
三、固體對氣體的吸附及氣體的脫附
第二節 真空的獲得
一、旋片式機械真空泵
二、復合分子泵
三、低溫泵
第三節 真空的測量
一、電阻真空計
二、熱偶真空計
三、電離真空計
參考文獻
第二章 薄膜制備的化學方法
第一節 熱氧化生長
第二節 化學氣相沉積
一、一般化學氣相沉積反應
二、化學氣相沉積制備薄膜的傳統方法
三、激光化學氣相沉積
四、光化學氣相沉積
五、等離子體增強化學氣相沉積
第三節 電鍍
第四節 化學鍍
第五節 陽極反應沉積
第六節 LB技術
參考文獻
第三章 薄膜制備的物理方法
第一節 真空蒸發
一、真空蒸發沉積的物理原理
二、真空蒸發技術
第二節 濺射
一、濺射的基本原理
二、濺射鍍膜的特點
三、濺射參數
四、濺射裝置
第三節 離子束和離子助
一、離子鍍
二、陰極電弧等離子體沉積
三、熱空陰極*蒸發
四、離子轟擊共沉積
五、非平衡磁控離子助沉積
六、離子束沉積
第四節 外延生長
一、分子束外延(MBE)
二、液相外延生長(LPE)
三、熱壁外延生長(HWE)
四、有機金屬化學氣相沉積(MOCVD)
參考文獻
第四章 薄膜的形成與生長
第一節 形核
一、凝聚過程
二、Langmuir-Frenkel凝聚理論
三、成核理論
四、實驗結果
第二節 生長過程
一、一般描述
二、類液體合並
三、沉積參數的影響
第三節 薄膜的生長模式
第四節 遠離平衡態薄膜生長
一、粗糙表面的結構和生長
二、簡單模型
三、薄膜生長模型的實驗研究
參考文獻
第五章 薄膜表征
第一節 薄膜厚度控制及測量
一、沉積率和厚度監測儀
二、膜厚度測量
第二節 組分表征
一、盧瑟福背散射(RBS)
二、二次離子質譜儀(SIMS)
三、X射線光電子能譜(XPS)
四、俄歇電子能譜
五、電鏡中的顯微分析
第三節 薄膜的結構表征
一、衍射參數
二、熱振動與Debye-Waller因子
三、低能電子衍射(LEED)
四、掠入射角X射線衍射(GIXS)
五、透射電子顯微鏡
第四節 原子化學鍵合表征
一、能量損失譜(EELS)
二、擴展X射線
三、振動光譜：紅外吸收光譜和拉曼光譜
第五節 薄膜應力表征
參考文獻
第六章 薄膜材料
第一節 超硬薄膜材料
一、超硬材料
二、金剛石薄膜
三、類金剛石薄膜材料
四、CNz薄膜材料
第二節 智能薄膜材料
一、形狀記憶合金薄膜材料
二、NiTi形狀記憶合金薄膜的制備和表征
三、形狀記憶合金及薄膜的應用
第三節 納米薄膜材料
一、納米多層膜塗層
二、納米復合硬質塗層
三、應用及展望
第四節 石墨片二維薄膜材料
一、石墨片的實驗制備
二、石墨片的性質
三、展望
第五節 磁性氮化鐵薄膜材料
一、氮化鐵薄膜材料的相結構
二、氮化鐵薄膜材料的制備與表征
第六節 巨磁阻錳氧化物薄膜材料
一、磁阻的定義
二、鈣鈦礦錳氧化物薄膜中的CMR效應及機制研究
三、錳氧化物薄膜制備工藝及表征手段
四、巨磁電阻薄膜材料的應用現狀
參考文獻