內容簡介

本書是現代X射線光譜分析綜合性參考書。全書共分十七章，繫統介紹X射線的物理基礎、基本性質、激發、色散、探測與測量，波長色散與能量色散光譜儀，基體效應、光譜背景和譜線重疊，樣品制備，定性與半定量分析，實驗校正法、數學校正法定量分析，薄膜和鍍層厚度分析、應用實例及分析誤差與不確定度等內容。附錄列舉了X射線熒光光譜分析常用的物理常數、相關數據等，供讀者參考使用。本書適用於冶金、地質、礦山、建材、檢驗檢疫、石油、化工、環境、農業、生物、食品、醫藥、文物及考古等部門從事X射線光譜分析的專業人員及相關工程技術人員參考，同時適用於高等院校相關專業師生、研究生及科研院所工程技術人員參考。