●1物理氣相沉積
●1.1物理氣相沉積
●1.2真空蒸發鍍膜
●1.2.1真空蒸發的基本過程
●1.2.2蒸發熱力學
●1.2.3蒸發速率
●1.2.4蒸發分子的平均自由程與踫撞概率
●1.2.4.1蒸發分子平均自由程
●1.2.4.2踫撞概率
●1.2.5蒸發源的蒸發特性及膜厚分布
●1.2.5.1點蒸發源
●1.2.5.2小平面蒸發源
●1.2.6蒸發源的類型
●1.2.6.1電阻加熱蒸發源
●1.2.6.2電子束加熱蒸發源
●1.2.6.3高頻感應加熱蒸發源
●1.2.6.4電弧加熱蒸發源
●1.2.6.5激光加熱蒸發源
●1.2.7合金及化合物蒸發
●1.2.7.1合金的蒸發
●部分目錄

本書是作者根據多年從事材料表面薄膜制備技術的科研和教學經驗編寫而成，全書共分4章，分別闡述了材料表面防護裝飾膜層的物理氣相沉積技術（包括真空蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍鍍膜），化學氣相沉積技術（包括簡單的cvd相關理論、設備裝置、cvd種類等），硬膜及超硬膜的制備技術（金剛石膜、類金剛石膜、立方氮化硼膜、cnx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及復合薄膜等），以及利用化學、電化學反應在材料表面制備膜層的技術（包括化學鍍、化學氧化、鈍化、磷化、電鍍、陽極氧化、微弧氧化等內容）。
本書除了具有一定的理論參考價值外，也具有較為廣泛的應用價值，既可作為薄膜材料研究專業科技人員的參考書，也可作為高等院校材料類及相關專業的本科生、研究生教學用書。