●《納米科學與技術》叢書序
前言
第1章光學曝光
1.1光學曝光繫統的基本組成
1.2光學曝光的基本原理與特征
1.2.1光學曝光的基本模式與原理
1.2.2光學曝光的過程
1.2.3分辨率增強技術
1.3短波長光學曝光技術
1.3.1深紫外與真空紫外曝光技術
1.3.2極紫外曝光技術
1.3.3X射線曝光技術
1.3.4LIGA加工技術
1.4光學曝光加工納米結構
1.4.1泊松亮斑納米曝光技術
1.4.2表面納米曝光技術
1.4.3基於雙層圖形技術的納米加工
1.5光學曝光加工三維微納結構
1.5.1灰度曝光技術
1.5.2基於欠曝光的三維曝光技術
1.5.3基於菲涅耳衍射與鄰近效應的三維曝光技術
參考文獻
第2章電子束曝光技術
2.1電子束曝光繫統組成
2.1.1電子槍
2.1.2透鏡繫統
2.1.3電子束偏轉繫統
2.2電子束曝光繫統的分類
2.2.1掃描模式
2.2.2束形成
2.3電子束抗蝕劑
2.3.1電子束抗蝕劑的性能指標
2.3.2電子束抗蝕劑制作圖形工藝
2.3.3常用電子束抗蝕劑及其工藝過程
2.3.4特殊的顯影工藝
2.3.5多層抗蝕劑工藝
2.3.6理想抗蝕劑剖面的加工
2.4電子束與固體的相互作用及鄰近效應
2.4.1電子束與固體的相互作用
2.4.2鄰近效應及校正
2.5充電效應及解決方法
2.5.1引入導電膜
2.5.2變壓電子束曝光繫統
2.5.3臨界能量電子束曝光
2.6三維結構的制備
2.6.1平整襯底上三維結構的加工
2.6.2三維襯底上圖形的制備
2.7電子束曝光分辨率
2.8新型的電子束曝光技術
2.8.1投影電子束曝光
2.8.2微光柱陣列電子束曝光
2.8.3反射電子束曝光
參考文獻
第3章聚焦離子束加工技術
3.1聚焦離子束繫統的基本組成
3.2聚焦離子束的基本功能與原理
3.2.1離子束成像
3.2.2離子束刻蝕
3.2.3離子束輔助沉積
3.2.4FIB的傳統應用
3.3聚焦離子束的三維納米加工
3.3.1FIB刻蝕加工三維結構
3.3.2FIB沉積加工三維結構
3.3.3FIB輻照加工三維結構
3.4聚焦離子束技術的發展
……
第4章激光加工技術
第5章納米壓印技術
第6章刻蝕技術
第7章薄膜技術
第8章自組裝加工
第9章微納加工在電學領域的應用
第10章微納加工在光學領域的應用
第11章微納加工在磁學領域的應用
第12章微納加工在其他領域的應用
索引