●第一篇物理氣相沉積技術
1真空鍍膜技術基礎
1.1真空鍍膜技術簡介
1.2真空鍍膜繫統
1.2.1真空的獲得
1.2.2真空的測量
1.3薄膜的表征
1.3.1薄膜的成分和結構
1.3.2薄膜的硬度
1.3.3薄膜的結合力
2PVD薄膜成膜原理
2.1等離子體特性
2.1.1等離子體的基本參量以及等離子體溫度
2.1.2等離子體振蕩
2.1.3等離子體的屏蔽效應及德拜長度
2.1.4等離子體鞘層與等離子體電位
2.2凝結過程
2.3薄膜的形核與生長
2.3.1自發形核
2.3.2非自發形核
……

本書分為兩篇。第一篇從真空鍍膜技術基礎、物理氣相沉積（PVD）薄膜生長成膜的原理出發，詳細介紹了蒸發鎪、濺射沉積和離子鍍膜等各種PVD技術，對PVD技術的發展進行了總結和展望，最後對PVD技術在沉積硬質防護、減磨潤滑、耐蝕防護和光電磁功能等方面的應用進行了歸納總結。第二篇從化學氣相沉積（CVD）的技術基礎出發，詳細介紹了熱CVD、等離子增強CVD（PECVD）、反應活化擴散CVD和其他新型CVD技術的技術原理和特征，對CVD技術沉積各種金屬和陶瓷塗層，在硬質防護、高溫防護和功能化方面的應用進行了歸納總結。本書可作為表面工程的本科生、研究生教材使用，亦可供真空表面技術人員閱讀。