●第1章 納米加工研究方向簡介
1.1 納米加工
1.2 納米光刻
1.3 納米薄膜沉積
1.4 納米尺度下的刻蝕及圖形化工藝
1.5 小結
參考文獻
第2章 電子束曝光與顯影的基本原理
2.1 引言
2.1.1 電子傳輸
2.1.2 電子束抗蝕劑
2.1.3 抗蝕劑的顯影
2.1.4 工藝參數
2.2 PMMA抗蝕劑工藝窗口
2.2.1 溫度對工藝窗口的影響
2.2.2 曝光劑量和顯影時間的相互影響
2.2.3 曝光電壓的影響
2.3 EBL工藝優化：典型示例
2.3.1 低壓曝光、低溫顯影PMMA工藝
2.3.2 通過控制PMMA實現亞20nm寬橋結構
2.3.3 HSQ亞10nm工藝
2.3.4 HSQ抗蝕劑作為刻蝕掩模：8nm寬橋結構
2.4 絕緣襯底
2.5 小結
參考文獻
第3章 電子束曝光與抗蝕劑工藝的模擬仿真
3.1 引言
3.2 仿真流程圖
3.3 電子束曝光仿真模塊
3.3.1 建模方法
3.3.2 能量沉積函數
3.3.3 電子束形效應
3.3.4 模擬版圖中的能量分布
3.3.5 鄰近效應校正
3.4 抗蝕劑模擬模塊
3.4.1 宏觀尺度下的抗蝕劑建模
3.4.2 介觀尺度下的抗蝕劑顯影模型建模
3.5 電子束曝光模擬的商用化軟件
3.5.1 電子束一物質相互作用
3.5.2 鄰近效應校正
3.5.3 現代化的軟件工具
3.6 實例
3.6.1 電子束圖形化模擬及其在多層膜襯底上復雜版圖的測量
3.6.2 模擬電子束曝光中白噪聲對32nm節點CD及LER的影響
3.7 小結
參考文獻
第4章 氦離子光刻的原理及性能
4.1 引言
4.2 氮離子束繫統
4.3 氮離子與物質的相互作用
4.3.1 初始離子束發散
4.3.2 二次電子的產生
4.3.3 二次電子的能量分布
4.3.4 二次電子的曝光貢獻
4.3.5 曝光損傷
4.4 氮離子束光刻
4.4.1 靈敏度和對比度
4.4.2 分辨率
4.4.3 鄰近效應
4.4.4 Al2O3抗蝕劑
4.5 結論和展望
參考文獻
……
第5章 納米壓印技術
第6章 原子層沉積納米技術
第7章 納米尺度下的表面功能化
第8章 基於嵌段共聚物自組裝的納米結構
第9章 電沉積法在半導體上外延生長金屬
第10章 用於納米技術的化學機械拋光
第11章 聚焦氦離子束沉積、銑削與刻蝕加工
第12章 激光納米圖形化
第13章 基於納米多孔陽極Al2O3／TiO2的模板制作與圖形轉移技術
參考文獻

納米圖形加工是目前微納米科技中的關鍵技術，本書邀請了國際上本領域的多位專家在自己的特長領域撰寫了相關章節，對納米圖形加工技術做了較全面的介紹，對我國從事微納米加工、精密制造、微納光電器件等領域的專家學者有借鋻作用。本書為電子、材料以及物理等領域的科學家和工程師更新納米結構加工的近期新核心技術。 本書兼顧了納米加工的基礎原理和應用實例。潛在的讀者，即所有對納米結構加工新方法感興趣的人員，包括工業界的工藝工程師、學術研究人員、研究生及高年級本科生。本書也可以作為教材為研究生開設一個學期的納米加工方面的課程，盡管不是專門為教學目標而編寫。

[加拿大] Maria Stepanova，Steven Dew 著 段輝高//陳藝勤//胡躍強//李平 譯