●序言
前言
第7章 基於原位PMI的波像差檢測
7.1 Shack-Hartmann檢測技術
7.2 線衍射干涉檢測技術
7.3 Ronchi剪切干涉檢測技術
7.3.1 在光刻機中的應用
7.3.2 干涉場的理論分析
7.3.3 相位提取技術
7.3.4 波前重建技術
7.3.5 實驗繫統參數設計與實驗結果
7.4 多通道Ronchi剪切干涉檢測技術
7.4.1 稀疏采樣法波前重建
7.4.2 多通道檢測繫統設計
參考文獻
第8章 偏振像差檢測
8.1 偏振像差對光刻成像質量的影響
8.2 偏振像差表征方法
8.2.1 偏振態及其變換的表征方法
8.2.2 穆勒矩陣表征法
8.2.3 瓊斯矩陣表征法
8.2.4 三階瓊斯矩陣表征法
8.3 基於光刻膠曝光的檢測技術
8.3.1 SPlN-BLP技術
8.3.2 基於相移掩模的檢測技術
8.4 基於橢偏測量的檢測技術
8.4.1 穆勒光瞳檢測技術
8.4.2 瓊斯光瞳檢測技術
8.5 基於空間像測量的檢測技術
8.5.1 基於空間像位置偏移量的檢測
8.5.2 基於差分空間像主成分分析的檢測
參考文獻
第9章 極紫外光刻投影物鏡波像差檢測
9.1 基於干涉測量的檢測技術
9.1.1 點衍射干涉檢測
9.1.2 剪切干涉檢測
9.1.3 Fizeau干涉檢測
9.2 基於Hartmann波前傳感器的檢測技術
9.3 基於空間像測量的檢測技術
9.3.1 基於空間像匹配的檢測技術
9.3.2 基於波前局部曲率測量的檢測技術
9.4 基於Ptychography的檢測技術
9.4.1 基本原理
9.4.2 相位恢復算法
9.4.3 光場傳播公式
9.4.4 仿真與實驗
9.5 基於光刻膠曝光的檢測技術
參考文獻
第10章 像質檢測關鍵依托技術
10.1 工件臺位置參數檢測技術
10.1.1 工件臺基座表面形貌測量技術
10.1.2 承片臺不平度檢測技術
10.1.3 承片臺方鏡表面不平度檢測技術
10.1.4 工件臺水平坐標繫校正參數檢測技術
10.2 調焦調平傳感技術
10.2.1 狹縫投影位置傳感技術
10.2.2 光柵投影位置傳感技術
10.3 硅片對準技術
10.3.1 自相干莫爾條紋對準技術
10.3.2 基於標記結構優化的對準精度提升方法
10.3.3 基於多通道對準信號的對準誤差補償技術
10.4 照明參數檢測與控制技術
10.4.1 照明參數優化
10.4.2 照明光瞳偏振參數檢測技術
10.4.3 照明均勻性控制技術
10.4.4 曝光劑量控制技術
10.5 光刻成像多參數優化技術
10.5.1 光源優化技術
10.5.2 掩模優化技術
10.5.3 光塬掩模聯合優化技術
10.5.4 光源掩模投影物鏡聯合優化技術
10.5.5 光刻機多參數聯合優化技術
10.6 EUV光刻掩模衍射成像仿真技術
10.6.1 無缺陷掩模衍射場仿真技術
10.6.2 含缺陷掩模衍射場仿真技術
參考文獻
後記

光刻機像質檢測技術是支撐光刻機整機與分繫統滿足光刻機分辨率、套刻精度等性能指標要求的關鍵技術。本書繫統地介紹了光刻機像質檢測技術。介紹了國際主流的光刻機像質檢測技術，詳細介紹了本團隊提出的繫列新技術，涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測量法、干涉測量法等檢測技術，包括初級像質參數、波像差、偏振像差、動態像差、熱像差等像質檢測技術。本書介紹了這些技術的理論基礎、原理、模型、算法、仿真與實驗驗證等內容。以光刻機原位與在線像質檢測技術為主，也介紹了投影物鏡的離線像質檢測技術，涵蓋了深紫外干式、浸液光刻機以及極紫外光刻機像質檢測技術。本書適用於從事光刻機研究與應用的科研與工程技術人員，可作為高等院校、科研院所相關領域的科研人員、教師、研究生與本科生的參考書。同時，可為現代光學精密檢測、光學成像等領域的科技人員、研究生和高等院校的本科生提供參考。